SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl 这是工业生产硅的方法中的最后一步！（1）氢气与四氯化硅在高温条件下反应的化学方程式为：SiCl4+2H2高温 Si+4HCl．故填：SiCl4+2H2高温 Si+4HCl．（2）两个钠离子可以表示为2Na+；两个水分子可以表示为2H2O； 四个硫酸根离子可以表示为4SO42-．故填：2Na+；2H2O；4SO42-．
